X 射线发生器：Cu 靶，功率 3kW，陶瓷光管 扫描方式：θ-θ 测角仪 探测器：LynxEye 阵列探测器、NaI 闪烁计数器 光学附件：Gobel 镜、Ge(022)分析晶体 高精度五轴全自动尤拉环： CHI 圆 -11°-- 98°；PHI 圆，360 度 ；X 轴平移, 80mm ；Y 轴平移, 80mm；Z 轴平移, 2mm 高温附件：RT-900℃

1、薄膜掠入射分析（GID）：精确分析多层膜中材料的组成、次序、取向等； 2、薄膜反射分析(XRR)：针对多晶、单晶多层薄膜厚度、密度、粗燥度进行精确分析； 3、高分辨衍射(HRXRD)：针对高质量的外延薄膜、单晶材料，开展摇摆曲线，倒易空间 mapping 分析。 4、可进行单晶外延膜等材料的退火研究/高温下的高分辨 X 射线衍射表征。

1、薄膜掠入射分析（GID）：精确分析多层膜中材料的组成、次序、取向等； 2、薄膜反射分析(XRR)：针对多晶、单晶多层薄膜厚度、密度、粗燥度进行精确分析； 3、高分辨衍射(HRXRD)：针对高质量的外延薄膜、单晶材料，开展摇摆曲线，倒易空间 mapping 分析。 4、可进行单晶外延膜等材料的退火研究/高温下的高分辨 X 射线衍射表征。

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